您現(xiàn)在的位置:中國農(nóng)業(yè)儀器網(wǎng) > 技術文章 > 采用冠層分析系統(tǒng)測量冠層數(shù)據(jù)有哪些優(yōu)點?
采用冠層分析系統(tǒng)測量冠層數(shù)據(jù)有哪些優(yōu)點?
植物冠層結(jié)構(gòu)直接影響著植物的許多生物、物理過程,比如說光合作用、呼吸作用、蒸騰作用、碳氮循環(huán)和降水截獲等。因此測定植物的冠層結(jié)果,對于提高現(xiàn)代農(nóng)藝水平,有十分重要的意義。一般來說測定植物冠層數(shù)據(jù)主要有兩種方法,第一種是直接測量,第二種是采用冠層分析系統(tǒng)間接測量,而現(xiàn)代農(nóng)業(yè)研究中,多是采用第二種方式來開展測量工作,那么采用冠層分析系統(tǒng)測量冠層數(shù)據(jù)有哪些優(yōu)點呢?
首先來說說直接測量和間接測量都是如何進行的。直接測量是通過想測定所有葉片的葉面積,再計算LAI,因要剪下全部待測葉片,多數(shù)屬于毀壞性測量,或至少會干擾冠層,葉片角度的分布,從而影響數(shù)據(jù)的質(zhì)量,直接測量費時、費力。間接測量就是利用冠層結(jié)構(gòu)與冠層內(nèi)輻射與環(huán)境的相互作用這一定量耦合關系,通過冠層分析系統(tǒng)來測定植物冠層的相關數(shù)據(jù),通過植物冠層的轉(zhuǎn)移模型來推斷LAI。
冠層分析系統(tǒng)是通過處理影像數(shù)據(jù)文件來獲取與冠層結(jié)構(gòu)有關的,例如葉面積指數(shù)、光照間隙及間隙分布狀況。通過分析輻射數(shù)據(jù)的相關信息,能夠測算出冠層截獲的PAR以及冠層下方的輻射水平。因此與直接測量法相比,采用冠層分析系統(tǒng)測量冠層數(shù)據(jù),可以避免直接測量法所造成的大規(guī)模破壞植被的缺點,而且采用儀器進行測量操作,具有方便快捷,不受時間限制,獲取數(shù)據(jù)量大等優(yōu)點,非常適合用于現(xiàn)代農(nóng)業(yè)科研研究當中,因此目前冠層分析系統(tǒng)被廣泛應用于農(nóng)業(yè)、園藝、林業(yè)領域有關栽培、育種、 植物群體對比與發(fā)展的 研究與教學工作當中,并在實際工作中發(fā)揮了重要的作用。
- 【中國農(nóng)業(yè)儀器網(wǎng)】聲明部分文章轉(zhuǎn)載自其它媒體,轉(zhuǎn)載目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責,且不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。如涉及作品內(nèi)容、版權和其它問題,請在30日內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系。